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eH 400

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KRI Ion Source eH 400 系列離子源:
KRI Ion Source eH 400 系列離子源能夠提供高離子電流，適用於中小型真空系統，可以控制較低的離子能量，適用於像塑膠鏡片等脆弱的材料和III-V族半導體材料 (III-V compound)。通常被應用在離子輔助沉積工藝，然而 eH 400 離子源被更多的使用在原位預清洗和低能刻蝕工藝。
 

KRI Ion Source eH 400

Model

eH 400, eH 400 LEHO

Cathode / Neutralizer

Yes

Anode module

Yes

Process gases

Inert, reactive, organic

Power controller

eH Plasma Power Pack

 

 

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