伯東公司考夫曼霍爾離子源 eH 系列

伯東公司為美國考夫曼公司離子源大中華總代理!!

 

KRI考夫曼霍爾離子源 eH 系列特點：

  -無柵極離子源

  -高離子濃度低離子能量

  -離子源散射角度45度

  -離子源涵蓋面積廣

  -可依據客戶實際需要選裝離子源中和器或燈絲

  -可以通過電腦遠端控制

 

   霍爾離子源主要型號：eH 200 eH 400 eH 1000 eH 2000 eH 3000 eHlinear

   伯東公司依據客戶實際應用選型離子源並提供完善的售後維修服務

 

 

 

KRI考夫曼霍爾離子源主要應用：

-離子輔助鍍(IBAD)

-In-Situ Substrate Preclean (PC)

-Ion Beam Modification of Material Properties (IBM)

-Direct Deposition (DD)

-離子刻蝕 (IBE)

 

 

光學鍍膜 - 客戶現場圖片：

 1. 國內某大學天文學系小尺寸刻蝕設備選用伯東公司考夫曼霍爾離子源 eH400HC

 

 

 

霍爾離子源 eH 系列主要優點：

-高離子濃度 (High density), 低能量(Low energy)

-離子束涵蓋面積廣 (high ion beam sharp)

-鍍膜均勻性佳 -提高鍍膜品質 -模組化設計, 保養快速方便

-增加光學膜後折射率 (Optical index) -全自動控制設計, 超做簡易

-低耗材成本,安裝簡易

 

 

伯東公司主要經營產品：

-德國 Pfeiffer 渦輪分子泵

-幹式真空泵 -羅茨真空泵

-旋片真空泵

-應用於各種條件下的真空測量 (真空計, 真空規管)

-氦質譜測漏儀

-質譜分析儀

-真空系統以及Cryopump 冷凝泵/低溫泵

-Polycold 冷凍機

-美國 KRI Kaufman 考夫曼離子源/離子槍

-inTEST 高低溫循環溫度控制系統

 

欲了解更詳細資料，請至我們的真空產品網站 www.hakuto-vacuum.com.tw  

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