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最新消息

產品資訊2014-07-03

考夫曼離子源離子槍成功應用於離子刻蝕 (IBE)

伯東公司代理的美國考夫曼離子源 離子槍 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) RFICP 成功應用於離子刻蝕 (IBE)工藝

 

伯東公司美國考夫曼大中國區總代理!!

考夫曼離子源具有高離子濃度 (High beam currents) 及低離子能量 (Low beam energies)此兩個特殊條件對於刻蝕效率及刻蝕中避免傷害到工件表面材質可以達到最佳化並且可以依客戶之工件尺寸選擇所對應之型號:RFICP40RFICP100RFICP140RFICP200RFICP300

 

 

更多產品資訊http://www.hakuto-vacuum.com.tw/product-list.php?pid=16

 

     

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