伯東公司代理的美國考夫曼離子源 離子槍 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) RFICP 成功應用於離子刻蝕 (IBE)工藝
考夫曼離子源具有高離子濃度 (High beam currents) 及低離子能量 (Low beam energies),此兩個特殊條件對於刻蝕效率及刻蝕中避免傷害到工件表面材質可以達到最佳化,並且可以依客戶之工件尺寸選擇所對應之型號:RFICP40、RFICP100、RFICP140、RFICP200、RFICP300
更多產品資訊:http://www.hakuto-vacuum.com.tw/product-list.php?pid=16
伯東公司主要經營產品: