美國考夫曼柵極離子源成功應用於離子濺射鍍膜 (IBSD)
伯東公司為美國考夫曼公司 Kaufman & Robinson, Inc 大中國區總代理!!
美國考夫曼公司柵極離子源 Gridded Ion Sources 系列 RFCIP(射頻電源式考夫曼離子源)、KDC(直流電源式考夫曼離子源)已廣泛被應用於離子濺射鍍膜(IBSD)工藝,考夫曼離子源可控制離子的強度及濃度,使濺射(Sputtering)時靶材(Target)被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密、高品質之薄膜
伯東公司考夫曼離子源可依客戶濺射(Sputtering)工藝條件選擇 RFICP(射頻電源式考夫曼離子源)或是 KDC(直流電原式考夫曼離子源),規格如下:
伯東公司主要經營產品: