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KRI 考夫曼霍爾離子源 eH

KRI 考夫曼霍爾離子源 eH|伯東公司

離子源 eH 200

離子源 eH 200

KRI Ion Source eH 系列離子源
結合是圓柱式及線性配置的離子槍 (ion source), 這些配置可以整合至多種真空工藝平臺, 包含鍍膜機, 傳送腔體, 捲繞式鍍膜機, 磁控濺射機, 連續式鍍膜機, 我們提供一套完整的方案包含離子源 (ion source), 電子中和器, 電源供應器(Compact Power Supply), 流量控制器 (MFC), 等等...

eH 400

eH 400

KRI Ion Source eH 400 系列離子源:
KRI Ion Source eH 400 系列離子源能夠提供高離子電流,適用於中小型真空系統,可以控制較低的離子能量,適用於像塑膠鏡片等脆弱的材料和III-V族半導體材料 (III-V compound)。通常被應用在離子輔助沉積工藝,然而 eH 400 離子源被更多的使用在原位預清洗和低能刻蝕工藝。

 

eH 1020 F

eH 1020 F

KRI Ion Source 無柵式燈絲型離子源 EH 1020 F
離子源發明人 Kaufman 博士的最新發明 Kaufman 博士是知名的離子源發明人, Kaufman 博士以其在離子源領域 25 年的專業經驗,最新發明―大面積的離子源 EH 1020 F。可應用於離子助鍍(IAD),前處理清潔及蝕刻等。

eH 2000

eH 2000

KRI 離子源(KRI Ion Source ) eH 2000 系列:
KRI 離子源 eH 2000 是一款更強大的版本,帶有水冷方式,他具備 eH 1000 所有的性能,而且可以產生更高的離子束功率,適合更高的工藝等級和更大的系統。水冷方式有助於降低襯底溫度,可適用於塑膠襯底。

eH Linear

eH Linear


KRI Ion Source eHL 線性離子源

KRI Ion Source eHL 線性離子源使用 eH 200 或 eH 400 做為模組,能應用於寬範圍的襯底,離子源長度高達 1 米,通過嚴格調整模組間的距離可以實現最佳的均勻性和離子流。由於模組是平行放置,大大簡化了氣體、功率和電子三者的分佈。KRI eHL 線性產品使用標準的端部霍爾模組並使設備的需求簡化,一個低成本、高電流和低能量的離子束可以很好的使用于 web 塗層、in-line 沉積和圓柱旋轉濺射系統。