+886-2-8772-8910
KRI Ion Source RFICP 140, Gridded RF Ion Source
KRI Ion Source RFICP 140 是一款緊湊的有柵極離子源,非常適合於離子束濺射沉積、離子輔助沉積和離子束刻蝕。在離子束濺射工藝中,離子源配有離子光學元件,可以很好的控制離子束去濺射靶材,實現完美的薄膜特性。同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中,最佳的離子光學元件能夠完成發散和聚集離子束的任務。就標準的型號而言,可以在離子能量為 100~1000 eV 範圍內獲得很高的離子密度。
KRI Ion Source RPICP 140
Model |
RFICP 140 |
---|---|
Discharge |
RF inductive |
Filamentless |
Yes |
RF power |
>0.5 kW |
Ion optics |
OptiBeamTM |